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Duplicate

반도체 - 블랭크마스크 / 쉐도우마스크

설명
EUV과정에서 필요
관련주
웨이브일렉트로
APS홀딩스
디이엔티
에스앤에스텍
반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광되기 전 마스크인 블랭크 마스크 제조